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   隨著人們生活水平的提高，手機的使用也越來越普遍。但是，手機在帶給人們方便的同時，其輻射對人體的危害也日益凸現(xiàn)。研究表表明，手機產生的電磁波強度是空間電磁波的4到6倍。少數(shù)劣質手機產生的電磁波甚至達到空間電磁波百倍以上。

   手機輻射可引發(fā)神經衰弱、內分泌失調，還能影響少年兒童的生長發(fā)育，嚴重的甚至會引發(fā)腦瘤。如何減輕手機輻射對人體健康的影響，已成為擺在我們面前的一個急需解決的問題。

  應用手機真空鍍膜技術，就可以較好地解決這個難題。真空鍍膜是在原子水平上進行材料生成的技術，鍍層的晶料度在10納米左右，屬于納米材料的范疇。通過對手機殼內壁真空鍍電磁防護膜層，可以極大地防止因電磁波輻射而對手機使用者造成的危害。

  由此可見，真空鍍膜不僅可以增強產品的美感，最重要的是還能極大的防止因電磁波輻射對人體的傷害。

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